D-FET je v předpětí brány 0, když existence kanálu může vést FET; E-FET je v předpětí brány 0, když není žádný kanál, nemůže provést FET. tyto dva typy FET mají své vlastní charakteristiky a použití. Obecně je vylepšený FET ve vysokorychlostních obvodech s nízkým výkonem velmi cenný; a toto zařízení funguje, je to polarita předpětí brány voltage a odtok stejné napětí, je to pohodlnější v návrhu obvodu.
Takzvaný vylepšený znamená: když je trubice VGS = 0 odříznutý stav plus správná VGS, většina nosičů je přitahována k bráně, čímž se nosiče v oblasti "vylepšují" a tvoří vodivý kanál. n-kanálový vylepšený MOSFET je v podstatě levo-pravá symetrická topologie, což je polovodič typu P na generování vrstvy izolace SiO2 filmu. Vytváří izolační vrstvu SiO2 filmu na polovodiči typu P a poté difunduje dvě vysoce dotované oblasti typu Nfotolitografie, a vede elektrody z oblasti typu N, jednu pro svod D a jednu pro zdroj S. Na izolační vrstvě mezi zdrojem a odtokem je pokovena vrstva kovového hliníku jako hradlo G. Když VGS = 0 V , mezi kolektorem a zdrojem je poměrně dost diod s diodami back-to-back a napětí mezi D a S netvoří proud mezi D a S. Proud mezi D a S se netvoří přiloženým napětím .
Když se přidá hradlové napětí, je-li 0 < VGS < VGS(th), prostřednictvím kapacitního elektrického pole vytvořeného mezi hradlem a substrátem jsou polyonové otvory v polovodiči typu P poblíž spodní části hradla odraženy směrem dolů a objeví se tenká ochuzená vrstva záporných iontů; současně bude přitahovat oligony v nich, aby se přesunuly k povrchové vrstvě, ale počet je omezený a nedostatečný pro vytvoření vodivého kanálu, který komunikuje odtok a zdroj, takže je stále nedostatečný k vytvoření ID odvodňovacího proudu. další zvýšení VGS, když VGS > VGS (th) (VGS (th) se nazývá zapínací napětí), protože v této době bylo hradlové napětí poměrně silné v povrchové vrstvě polovodiče typu P poblíž spodní části brány pod shromažďováním více elektrony, můžete vytvořit příkop, odtok a zdroj komunikace. Pokud je v tomto okamžiku přidáno napětí zdroje kolektoru, může být proud kolektoru vytvořen ID. elektrony ve vodivém kanálu vytvořené pod hradlem, protože nosný otvor s polovodičem typu P je opačný, proto se nazývá antitypová vrstva. Jak se VGS neustále zvyšuje, ID se bude nadále zvyšovat. ID = 0 při VGS = 0V a svodový proud nastává až po VGS > VGS(th), takže tento typ MOSFETu se nazývá vylepšený MOSFET.
Řídicí vztah VGS na odběrovém proudu lze popsat křivkou iD = f(VGS(th))|VDS=const, která se nazývá přenosová charakteristika, a velikostí sklonu přenosové charakteristiky gm, odráží řízení odtokového proudu napětím zdroje hradla. velikost gm je mA/V, takže gm se také nazývá transkonduktance.
Čas odeslání: srpen-04-2024
